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曝光过程指来自原稿图像表面的反射光

发布于:2016-09-04 19:41来源:上海记事本定制 作者:圣马广告 点击:
对静电照相复制工艺来说,曝光是放电的同义词,两者至少在物理效果上等价,因为曝光的结果导致光导体表面局部区域放电。根据LRS QGB chem所著“静电照相与显影物理’一书给出的定义,曝光过程指来自原稿图像表面的反射光(复印机)或激光器或发光二极管产生的光(打印机和记事本定制数字印刷机)对通常情况下为绝缘体的光导体放电,产生静电潜像,一种产生于光导部件表面涂布层的电荷图案,反映被转移成实际图像的信息。

由上述定义不难看出,静电复印机与激光打印机或发光二极管打印机乃至于静电照相记事本定制数字印刷机的曝光过程略有区别。在静电复印机中,灯泡发出的光线照射到被复制文档表面并反射,再利用反射光线在已均匀充电的光导材料表面曝光,形成静电潜像;由于打印机或记事本定制数字印刷机复制的对象是数字文件,因而激光束或其他光源发出的光束不能直接投射到光导体表面,必须先经过调制,转换为控制光束打开或关闭的控制信息,才能对光导材料曝光,形成表面电位不等的静电潜像。

光导材料的感光灵敏度与光源的能量密度和波长有十分密切的关系,这意味着光源技术参数必须与光导材料的感光灵敏度良好匹配。然而,由于任何光源的能量密度和波长不可避免地总会限制在一定的范围内,因而静电照相复制工艺对光导材料的物理特性要求极其严格,它们必须能保持表面电荷的高密度,以及足够大的内电场强度。为了在曝光时使光源发出的光能转换为电子空穴对,光导材料必须有高的量子能,且电荷应该有足够的能量穿透光导材料厚度,经历的穿透时间比起整个成像时间来短得多,这就要求光导材料有相对高的电荷传输率。

一般来说,曝光(放电)过程要求的光强度是光源波长的函数。理论研究结果和工程实践经验表明,当成像光源的波长与蓝光波长一致时,放电效率达到最高,蓝光波长因而成为非晶硒光导材料的有效放电波长。光源波长超过550nm后,非晶硒图像载体的工作灵敏度明显下降。后来发现,硒碲或砸砷化合物的有效放电波长扩展到红光,因而这些化合物制成的光导体可使用光源的选择范围更宽。

从生产工艺角度考虑,实现静电照相复制还需考虑到成像过程的连续性,才能保证复印机或打印机能不间断地工作,因而要求光导材料的电荷捕获密度低,使得在前一次成像时捕获的电荷不会导致后面曝光产生的静电潜像的畸变。

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